Sommario
Centrata sul tema centrale di “Innovazione nelle tecnologie di rivestimento sottovuoto e ingegneria delle superfici,” la 7a Conferenza sullo scambio di tecnologie del vuoto è ufficialmente iniziata oggi a Shenzhen.
Guidata dal principio fondamentale di “Superare le barriere tecniche e promuovere la sinergia industriale,” questa conferenza presenta sessioni di scambio incentrate su tre argomenti chiave: Deposizione a strati atomici (ALD), Deposizione chimica da vapore (CVD) e Rivestimenti a base di carbonio DLC/Ta-C.
Riunendo esperti internazionali del mondo accademico, dell'industria e delle istituzioni di ricerca insieme a leader tecnici delle principali aziende, la conferenza approfondirà le ultime scoperte nelle tecnologie chiave, i percorsi per l'implementazione industriale e le sfide fondamentali del settore. L'obiettivo è quello di stabilire una piattaforma integrata per “scambio tecnico, abbinamento delle risorse e trasformazione dei risultati,” consentendo alla tecnologia del vuoto di raggiungere una profonda integrazione e un'ampia applicazione in settori critici come i semiconduttori, le nuove energie e i materiali avanzati.
1. ALD/CVD “Controllo di precisione” risolve l'enigma
La selezione delle valvole per i sistemi ALD/CVD richiede non solo il rispetto delle specifiche fondamentali, ma anche l'allineamento con i dettagli del processo. Raggiungere un passo avanti da “accettabile a premium” nel rivestimento sottovuoto e nell'ingegneria delle superfici dipende dal “controllo di precisione a livello di micron” nei processi ALD/CVD, dove la velocità di risposta della valvola e la stabilità del sistema di gas speciali determinano direttamente l'uniformità, la purezza e i tassi di resa del rivestimento.
ALD: “Controllo a impulsi” e “Zero perdite”
Nei processi di rivestimento sottovuoto, le prestazioni delle apparecchiature di controllo dei fluidi sono fondamentali. I nostri prodotti eccellono in velocità di risposta, tasso di perdita e resistenza alla temperatura. Le apparecchiature dotate di un corpo valvola in acciaio inossidabile 316L di grado EP con guarnizioni in PTFE raggiungono un tasso di perdita ≤1×10⁻¹² Pa·m³/s, soddisfacendo i requisiti del processo ALD. Le nostre valvole multi-orifizio, progettate per applicazioni di rivestimento ALD ad alta temperatura, resistono alle alte temperature ottimizzando al contempo l'efficienza di spurgo per ridurre al minimo gli effetti dei precursori residui sulla qualità del rivestimento.
CVD: “Resistenza alla corrosione” e “Stabilità del flusso”
I nostri corpi valvola sono costruiti con gruppi valvola resistenti alla corrosione contenenti oltre il 25% di lega di cromo-nichel-molibdeno. Il processo CVD garantisce un funzionamento continuo e a lungo termine senza corrosione o perdite. Per quanto riguarda il controllo del flusso, il suo sistema di controllo a interblocco multi-valvola mantiene la deviazione del flusso entro ±0,2%, superando significativamente lo standard di precisione medio del settore di ±0,3%. Questo risolve efficacemente la sfida del settore delle “fluttuazioni del flusso che causano la deviazione dello spessore del rivestimento.”
Gas speciali per tubazioni “Tre proprietà”
La “pulizia, stabilità e tracciabilità” delle tubazioni di gas speciali fungono da salvaguardia invisibile per i processi di rivestimento sottovuoto.
Pulizia delle tubazioni
La pulizia delle pareti interne delle tubazioni deve essere rigorosamente controllata. A tal fine, abbiamo istituito un sistema completo di gestione della pulizia che comprende “pulizia, saldatura, spurgo e ispezione.” Impiegando un processo che combina “pulizia a ultrasuoni + spurgo con azoto ad alta purezza + trattamento di passivazione,” il valore Ra delle pareti interne delle tubazioni raggiunge costantemente 0,35μm.
Abbinamento preciso in base alla pressione nominale
Le pressioni delle tubazioni variano in modo significativo in diversi scenari di rivestimento sottovuoto (ALD varia tipicamente da 10⁻³ a 10⁻⁵ Pa, mentre CVD opera comunemente da 0,1 a 0,5 MPa), richiedendo metodi di connessione compatibili con la pressione nominale.
· Bassa pressione (≤0,3 MPa): connessioni a doppia ghiera
· Alta pressione (≥0,5 MPa): saldatura TIG automatica
· Ultra-alto vuoto (≤1e-4 Pa): flange a tenuta metallica
Equilibrio dinamico della pressione
L'alimentazione di gas pulsati nel processo ALD provoca fluttuazioni della pressione delle tubazioni. Se le fluttuazioni superano ±0,02 MPa, la stabilità della concentrazione del precursore è compromessa. Regolando il regolatore di pressione a monte, abbiamo controllato le fluttuazioni della pressione in ingresso a ±0,005 MPa. In combinazione con la regolazione del feedback in tempo reale da un sensore di pressione ad alta precisione con una precisione di ±0,1% FS, abbiamo infine ottenuto fluttuazioni della pressione delle tubazioni ≤±0,003 MPa, garantendo una concentrazione costante del getto a impulsi ALD.
Direzioni di aggiornamento principali per le apparecchiature per gas speciali
Le apparecchiature per gas speciali devono passare da “funzionamento isolato” a “profonda integrazione con il processo.”
Apparecchiature di miscelazione gas: miscelazione di precisione multi-componente
I processi CVD richiedono tipicamente 2-4 gas miscelati in proporzioni fisse. Pertanto, impieghiamo controllori di flusso massico (MFC) ad alta precisione leader a livello internazionale con una precisione di misurazione di ±0,05% FS, garantendo eccezionale stabilità e affidabilità nel controllo del flusso dei fluidi. Dotati del nostro algoritmo di miscelazione proprietario, questi controllori monitorano e compensano continuamente gli effetti delle fluttuazioni di temperatura e pressione dei gas sui parametri di flusso.
Apparecchiature per il trattamento dei gas di scarico: soddisfano gli standard ambientali e di sicurezza
I gas di scarico generati dal processo CVD devono soddisfare gli standard di emissione. Impieghiamo un sistema integrato di trattamento dei gas di scarico.
Fase di adsorbimento a secco: dotata di adsorbenti specializzati altamente selettivi, questo sistema di adsorbimento multistadio raggiunge un'efficienza di adsorbimento ultra-elevata di ≥99,9%. Fase di incenerimento: per composti organici complessi e difficili da degradare, viene creato un ambiente di pirolisi ad alta temperatura. In combinazione con la tecnologia di miglioramento della combustione turbolenta, questo raggiunge un tasso di decomposizione profonda di ≥99,99%, eliminando completamente il rischio di inquinanti organici.
Sistema integrato “Armadio gas speciali + tubazioni + apparecchiature”
Per ridurre al minimo i punti di interfaccia e ridurre i rischi di perdita, offriamo una soluzione integrata. Dalla progettazione dell'armadio per gas speciali (compresi i controlli di purificazione, distribuzione e sicurezza) all'integrazione delle tubazioni di saldatura e delle apparecchiature per il trattamento dei gas di scarico, l'intero processo viene eseguito professionalmente da un unico team.
Sfruttare l'Associazione come ponte per far progredire la tecnologia del settore
Questa conferenza su “Innovazione nella tecnologia di rivestimento sottovuoto e ingegneria delle superfici” serve non solo come piattaforma per lo scambio tecnologico a livello industriale, ma esemplifica anche l'impegno di Wofei Technology ad approfondire le connessioni del settore e a far progredire la “produzione potenziata dalla tecnologia.”
Andando avanti, continueremo a sfruttare l'Associazione di settore della tecnologia del vuoto come ponte, concentrandoci sui requisiti di controllo dei fluidi per i processi principali come ALD/CVD. Miriamo a guidare l'implementazione di maggiori innovazioni tecnologiche, spingendo la tecnologia di rivestimento sottovuoto e ingegneria delle superfici verso una nuova era di maggiore precisione e maggiore sicurezza!